本文標(biāo)題："培養(yǎng)皿環(huán)境適合于所有模式顯微鏡技術(shù)，相差、DIC、熒光"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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培養(yǎng)皿環(huán)境適合于所有模式的顯微鏡技術(shù)，相差、DIC、熒光
傳統(tǒng)培養(yǎng)皿加溫器都是環(huán)狀加：熱裝置，必須通過(guò)兩種導(dǎo)熱能
力差的介質(zhì)(空氣和塑料)把熱輻射到目標(biāo)，因此將導(dǎo)致：不均勻
的溫度分布·在溫度恢復(fù)期間，過(guò)長(zhǎng)的熱轉(zhuǎn)移時(shí)間(大約數(shù)分鐘)·
金屬表面的熱膨脹，在三維顯像或共焦應(yīng)用期間引起明顯垂直位移
如果這些因素不成為問(wèn)題，一種基座加溫載物臺(tái)是適用的和可
選擇的。不過(guò)，如果實(shí)驗(yàn)需要更精確的溫度控制或光學(xué)相容性，應(yīng)
考慮下文論述的技術(shù)。
培養(yǎng)皿活細(xì)胞系統(tǒng)的進(jìn)展
解決這些問(wèn)題的另一個(gè)方法是利用基面熱傳遞技術(shù)的微環(huán)境系
統(tǒng)。這一技術(shù)用一種透明、熱傳導(dǎo)的薄膜層來(lái)包被玻璃基質(zhì)的下面
，結(jié)合這層包被從而為細(xì)胞成像優(yōu)化出一種復(fù)合培養(yǎng)皿結(jié)構(gòu)，可一
次性使用。該技術(shù)通過(guò)一個(gè)熱敏電阻反饋回路，直接向細(xì)胞提供溫
度控制。反饋回路是通過(guò)玻璃基片的包被底面?zhèn)鲗?dǎo)電流，不會(huì)明顯
影響它的透射波譜。使用這一技術(shù)的熱響應(yīng)可以快到每秒0．1℃。
因?yàn)榉磻?yīng)時(shí)間很快，控制器可以在數(shù)秒內(nèi)調(diào)節(jié)電流控制，使得在培
養(yǎng)皿中補(bǔ)償因表面蒸發(fā)或灌注產(chǎn)生的溫度改變成為可能。高的響應(yīng)
時(shí)間可以：噌加高速安全電路，在發(fā)生故障時(shí)可以保護(hù)細(xì)胞。這一
技術(shù)提供了在一個(gè)均勻玻璃表面在各種厚度都能獲得高清晰度的成
像能力，包括常見(jiàn)用于高NA值的1．5號(hào)蓋玻片。培養(yǎng)皿環(huán)境適合于
所有模式的顯微鏡技術(shù)，包括明視野、暗視野、相差、DIc、熒光
、反射干涉和共焦顯微技術(shù)
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