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本文標題:"熒光(XRF)分析技術涂層的質量檢測儀器"

發布者:yiyi ------ 分類: 行業動態 ------ 人瀏覽過-----時間:2017-10-3 23:29:40

熒光(XRF)分析技術涂層的質量檢測儀器

 
    在工廠,X射線熒光(XRF)分析元素技術已用于準確地控制涂層
的質量,由非實驗室人員進行的XRF測試,就能迅速得到關于涂覆涂
料的量和均一性的信息,有關的分析數據很精確。已證明XRF對測
定紙或膜上硅氧烷涂層的質量,以及在紙中填充的二氧化鈦的質量
和膜上銀的質量很有效。
 
    技術
    X射線熒光是快捷的、非破壞性的和比較性的技術,能夠定造
測定很多材料中的元素。XRF類型很多
 
    XRF臺頂式分析儀以低能級的放射性同位表作為輻射源,輻射
源與試樣距離很近。輻射源發出的一次X射線照射到試樣上,產生
二次X射線熒光,二次X射線熒光能夠表征試樣中元素的特定的能量
,這種能量與化學或物理狀態無關-在一充滿氣體的計數器中檢測X
射線,得到一系列的脈沖,其振幅與入射的輻照能量成比例。例如
,從硅元素X射線得到的脈沖數與試樣中硅氧烷涂層的質量成正比+
因為這項技術是非破壞性的,所以.可以在任何時間對試樣進行重
復分析。
 

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